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플라스틱 가공에서 먼지 없는 동작을 위한 SHR-2000 고속 파우더 변형 믹서

인증
중국 Zhangjiagang Beisu Machinery Co., Ltd. 인증
중국 Zhangjiagang Beisu Machinery Co., Ltd. 인증
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플라스틱 가공에서 먼지 없는 동작을 위한 SHR-2000 고속 파우더 변형 믹서

SHR-2000 High-Speed Powder Modification Mixer for Dust Free Operation in Plastic Processing
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큰 이미지 :  플라스틱 가공에서 먼지 없는 동작을 위한 SHR-2000 고속 파우더 변형 믹서

제품 상세 정보:
원래 장소: 중국
브랜드 이름: BEISU
인증: CE
모델 번호: SHR-2000
결제 및 배송 조건:
최소 주문 수량: 1세트
가격: USD28000
포장 세부 사항: 목재 팔레트 및 필름 커버
배달 시간: 영업일 기준 35일
지불 조건: 신용장, 티/티
공급 능력: 달 당 10 세트
상세 제품 설명
수정제 복용량: 중량으로 0.5% - 2.0% 계량 정확도: ± 0.2%~0.5%(GIW), ± 1g~5g(LIW)
활성화 지수: > 98% - 99% 혼합 온도: 80°C~130°C
냉각 온도: 40°C - 50°C 처리능력: 1~10톤/시간
강조하다:

고속 분말 개질 믹서

,

먼지 없는 분말 수정 믹서

,

고속 플라스틱 믹서 기계

SHR-2000 분말 개질 비분진 공급 혼합기
분말 개질 및 고속 혼합 시스템은 저가 무기 분말을 기능성 충전재 및 활성 물질로 변환하기 위해 다양한 중공업 분야에서 널리 사용됩니다.
산업 응용 분야
산업 부문 주요 광물 분말 일반 개질제 운영 목표
플라스틱 (PVC, PE, PP) 분쇄 탄산칼슘, 활석 스테아르산, 파라핀 왁스 소수성 전환, 낮은 용융 점도, 높은 충전재 함량
고무 및 타이어 침강 실리카, 점토 실란 커플링제 공유 수지 결합, 인장 강도, 내마모성
페인트 및 코팅 이산화티타늄, 황산바륨 티타네이트, 폴리에틸렌 왁스 침강 방지, 높은 광택, 입자 분산
접착제 및 실란트 나노 탄산칼슘, 실리카 실란, 지방산 유변학 제어, 처짐 방지, 기계적 강화
분말 개질 및 혼합 시스템(분말 표면 코팅 또는 표면 처리 시스템이라고도 함)은 미세 무기 및 유기 분말의 표면 화학적 특성을 변경하는 데 사용됩니다. 이러한 시스템은 실란 커플링제, 티타네이트, 스테아르산 또는 파라핀과 같은 개질제를 분말 입자 표면에 적용하여 분산성, 소수성, 유동성 및 폴리머 매트릭스와의 호환성을 향상시킵니다.
시스템 아키텍처 및 공정 흐름
분말 표면 개질은 중량 감소 공급, 열 및 운동 에너지에 의한 고전단 분산, 후속 탈응집 공정의 시너지 조정을 기반으로 합니다.
[ 분말 중량 감소 공급 장치 ] ──┐
├──> [ 고전단 코팅 밀 / 믹서 ] ──> [ 사이클론 분리 ] ──> [ 포장 시스템 ]
[ 분무 개질제 주입 ] ──┘ (열 전달 및 분산) (집진)
  • 정밀 공급 (중량 감소): 분말은 일정한 질량 유량으로 이송되며, 액체 또는 고체 개질제는 분무 또는 계량 도징을 통해 정확한 비율(일반적으로 중량의 0.5%~2.0%)로 추가됩니다.
  • 예열 및 활성화: 혼합 챔버 내의 마찰 운동 에너지 또는 가열 재킷은 재료를 개질제의 반응 온도(80°C~130°C)까지 높여 입자 기공을 확장하거나 코팅제를 증발시킵니다.
  • 고전단 코팅: 고속 로터, 충격 핀 또는 와류 임펠러를 사용하여 개질제를 균일하게 분산시키고 각 입자의 표면을 코팅합니다.
  • 탈응집 및 냉각: 벌크 수집 전에 코팅된 분말은 2차 응집을 방지하기 위해 인라인 입자 분류 또는 냉각을 거칩니다.
시스템 유형 및 작동 메커니즘
시스템 유형 작동 메커니즘 주요 응용 분야 및 강점
3중 로터 / 와류 밀 코팅 시스템 3개의 삼각형 배열 로터를 사용하여 고속 와류 전단 및 자체 마찰 열을 생성합니다. 초미세 광물 분말 (325~3000 메쉬 탄산칼슘, 활석, 고령토, 실리카). 98% 이상의 코팅 활성화율 달성.
핀 밀 역회전 시스템 두 개의 고속 핀 디스크가 반대 방향으로 회전하며 최대 240m/s의 선속도를 냅니다. 동시 입자 크기 감소, 탈응집 및 개질이 필요한 고도로 응집된 미세 분말.
고속 가열 배치 믹서 수직 또는 수평 고전단 임펠러는 액체 스프레이 노즐과 함께 배치 가열 사이클에서 작동합니다. 폴리머 첨가제, 고무 화합물, 마스터 배치, 저용량 기술 화합물.
연속 터보/퍼그밀 코팅 시스템 연속 수평 패들 또는 고속 터보가 분말과 분무된 화학 스프레이를 지속적으로 혼합합니다. 고용량 산업 광물 처리 (시간당 1~10톤).
일반적인 개질제 및 기능
  • 스테아르산/지방산: 친수성 광물(예: 탄산칼슘 및 활석)을 소수성 입자로 전환하여 PVC, PE 및 PP 플라스틱과의 원활한 혼합을 가능하게 합니다.
  • 실란 커플링제 (예: A-174, KH-550): 무기 충전재(예: SiO₂, 유리 비드, 수산화알루미늄)와 유기 수지(예: 에폭시, 폴리우레탄, 불포화 폴리에스터) 사이에 공유 화학 결합을 형성합니다.
  • 티타네이트 및 알루미네이트: 고충전 복합재의 용융 점도를 낮추고 압출 플라스틱 프로파일의 충격 강도 및 파단 신율을 향상시킵니다.
주요 성능 지표
  • 활성화 지수 (소수성): 처리되지 않은 분말과 비교하여 물 표면에 뜨는 코팅된 분말의 백분율을 측정합니다. 고성능 시스템은 98%~99% 이상의 활성화율을 달성할 수 있습니다.
  • 코팅 범위 및 균일성: 코팅되지 않은 영역이나 과도한 자유 개질제를 피하면서 완전한 단분자층 표면 커버리지를 보장합니다.
  • 제로 응집: 열 또는 액체 다리 결합으로 인한 2차 입자 덩어리 형성을 제거합니다.
SHR-2000 Powder Modification Machine - Front View SHR-2000 Powder Modification Machine - Side View SHR-2000 Powder Modification Machine - Control Panel SHR-2000 Powder Modification Machine - Mixing Chamber SHR-2000 Powder Modification Machine - Feeding System SHR-2000 Powder Modification Machine - Internal Components SHR-2000 Powder Modification Machine - Complete Setup
시스템 기능 및 제형
고속 분말 개질 혼합 시스템에서 처리할 수 있는 재료는 무엇입니까?
  • 무기 광물 분말: 중질/경질 탄산칼슘(CaCO₃), 활석, 고령토, 실리카(SiO₂), 황산바륨(BaSO₄), 수산화알루미늄(ATH), 이산화티타늄(TiO₂).
  • 폴리머 분말: PVC 수지, PE/PP 분말, EVA 및 엔지니어링 플라스틱.
  • 개질제: 스테아르산, 실란 커플링제(KH-550, KH-570), 티타네이트, 알루미네이트 및 파라핀 왁스.
일반적인 개질제 복용량은 얼마이며 어떻게 계산됩니까?
  • 개질제는 일반적으로 원료 분말 중량의 0.5% - 2.0% 범위입니다.
  • 정확한 복용량은 입자 미세도(메쉬/D50 크기)와 총 표면적(BET 값)에 따라 달라집니다. 더 미세한 분말(예: 800 메쉬 대 2500 메쉬)은 완전한 단분자층 커버리지를 달성하기 위해 더 높은 비율의 개질제가 필요합니다.
도징 및 계량 정밀도
자동 계량 및 도징 공급 장치는 얼마나 정확합니까?
  • 주요 성분 (수지, 탄산칼슘): ± 0.2% - 0.5% 배치 정확도를 가진 중량 증가(GIW) 호퍼를 통해 측정됩니다.
  • 소량 첨가제 (개질제, 윤활제, 안료): ± 1g - 5g까지의 정밀도를 가진 중량 감소(LIW) 스크류 피더 또는 마이크로 도징 시스템을 통해 도징됩니다.
끈적이거나 습기에 민감한 개질제는 어떻게 처리됩니까?
액체 개질제(실란 또는 용융 스테아르산과 같은)는 온도 조절, 재킷형 도징 탱크에 보관되며, 덩어리짐을 방지하기 위해 고전단 하에서 믹서로 분무 노즐을 통해 공급됩니다.
운영, 품질 및 성능
분말 표면이 성공적으로 개질되었는지 어떻게 확인할 수 있습니까?
고성능 개질 시스템은 탄산칼슘과 같은 광물에 대해 > 98% - 99%의 활성화 지수를 달성합니다.
고속 열 혼합 후 냉각 믹서가 필요한 이유는 무엇입니까?
고속 열 믹서의 마찰은 화합물 온도를 110°C - 125°C까지 높입니다. 냉각 믹서에서 온도를 40°C - 50°C로 빠르게 낮추면 표면 처리가 고정되고 잔류 가스가 제거되며 보관 중 재료 응집, 케이킹 또는 열 분해가 방지됩니다.
시스템은 작업장에서의 먼지 배출을 어떻게 방지합니까?
전체 라인은 중앙 집중식 펄스 제트 백 필터 집진기에 연결된 밀폐된 공압 이송 또는 밀폐형 튜브 스크류 하에서 작동합니다. 이는 로딩 지점, 계량 호퍼 및 혼합 용기에서 음압 균형을 유지합니다.

연락처 세부 사항
Zhangjiagang Beisu Machinery Co., Ltd.

담당자: Mr. Batsita

전화 번호: 86-13913294389

팩스: 86-512-58968376

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